昭和电工2016年12月5日宣布，在用作液晶及半导体清洗剂的高纯度溶剂“Solfine”系列中开发出了新级别产品，将在德山事业所(日本山口县周南市)新设精炼设备。新级别产品的纯度达到99.95wt%以上，原级别产品则为99.50wt%以上。该公司将把新级别产品主要作为半导体光刻胶用溶剂来供应。

　　新级别产品的水分从原来的0.10wt%以下减至0.01wt%以下。金属保证项目从18项增至26项，金属保证级别从1.0wtppb以下提高到0.1wtppb以下。每mL的颗粒(0.1μm)数量从500个以下减少至100个以下。

　　新设备将从半导体光刻胶领域中需求有望扩大的环已酮以及多种溶剂开始生产，陆续扩充产品线。除了用中小型容器供货之外，还将实现大型容器的装运，比如利用原来被认为难以保持品质的槽罐车等。

　　随着半导体集成度不断提高，用户对光刻胶中占90%构成比例的溶剂也提出了品质改善要求。因此，昭和电工以实现超高纯度溶剂为目标，开始实施技术验证并考虑设置相关设备。由于试制品获得了可靠的成果，因此该公司决定为新级别产品新设精炼设备。