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一种高耐候自修复型光学胶黏剂及其制备方法

来源：林中祥胶粘剂技术信息网2025年08月26日

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申请公布号：CN120536082A

申请人：江苏世拓新材料科技有限公司、苏州世华新材料科技股份有限公司

摘要：本发明涉及胶粘剂技术领域，具体为一种高耐候自修复型光学胶黏剂及其制备方法。本发明包括含氟硅氧烷预聚物85‑95份；光引发剂溶液2‑5份；硅烷偶联剂3‑10份；本发明通过含氟硅氧烷预聚物、苯类硼酸酯单体、多官能丙烯酸酯、光引发剂和硅烷偶联剂的复配，使得制备的高耐候自修复型光学胶黏剂同时实现超低水氧渗透、温和条件下自修复及抗黄变，满足显示屏户外耐久性需求。

发明内容（节选）：本发明还提供一种高耐候自修复型光学胶黏剂的制备方法，包括如下步骤:

步骤1:含氟硅氧烷预聚物的制备按配方量称取原料，将含氢硅油与含氟的乙烯基单体加入反应釜，氮气保护下升温至75-120℃,开始滴下催化剂，反应4-6h后，取样做红外测试，直至Si-H峰(2140cm^-1)消失；再降至55-80℃，依次加入多官能丙烯酸酯、苯类硼酸酯单体，反应3-6h后降温，得到含氟硅氧烷预聚物;

步骤2:高耐候自修复型光学胶黏剂的制备。按配方量称取原料，取上述含氟硅氧烷预聚物、硅烷偶联剂、光引发剂于容器中搅拌30min混匀，即得到高耐候自修复型光学胶黏剂。较为优化地，制备含氟硅氧烷预聚物时，先升温至80±1℃，反应6h；再降温至60±1℃，反应4h。

与现有技术相比，本发明所达到的有益效果是:

(1)本发明中，在硅氧烷链段(-Si-0-Si-)中引入含氟侧链，能够降低表面能 (接触角>110°)，阻隔水氧渗透，提升胶粘剂的耐湿性。

(2)本发明中，在硅氧烷单体中嵌入苯类硼酸酯集团，实现湿热条件下自修复(60℃/85%RH条件下修复率>75%)，同时抑制羟基引发的氧化黄变。

(3)本发明中UV引发自由基聚合一丙烯酸酯基团快速固化形成初级网络、热激活硅醇缩合一硅氧烷端基脱水形成Si-0-Si三维骨架、动态键重构一硼酸酯键与环境中水分子可逆作用、持续修复界面缺陷，以三阶段交联的方式提升胶粘剂的耐候性。

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