2024年12月12日消息，国家知识产权局信息显示，万华化学集团股份有限公司申请一项名为“一种高疏水性的光敏聚酰亚胺光刻胶组合物及其应用”的专利，公开号CN 119105236 A，申请日期为2024年9月。

专利摘要显示，本发明公开了一种高疏水性的光敏聚酰亚胺光刻胶组合物，该光敏聚酰亚胺光刻胶组合物包含聚酰胺酸树脂、重氮萘醌磺酸酯、热交联剂、疏水剂、表面活性剂、溶解促进剂和溶剂。本发明的光敏聚酰亚胺光刻胶组合物使用的疏水剂一方面可以降低生产存放过程中水分的吸附，进而延长保质期；另一方面可以降低水吸附与光刻胶膜上的量，减少IUV过程中水与氮气分子的相互作用，使产生的氮气顺利扩散出膜面，进而使膜面不产生气泡。