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晶瑞股份引进行业高端人才，布局半导体光刻胶逐步提速

来源：互联网2021年08月05日

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作为半导体光刻核心耗材，光刻胶国产化率明显偏低，其市场主要被日本合成橡胶（JSR）、东京应化（TOK）、信越化学、陶氏化学等所主导。而在去年的新一轮《瓦森纳协定》修订中，增加了两条有关半导体领域的出口管制内容，主要涉及光刻软件以及12英寸晶圆技术，目标直指中国正在崛起的半导体产业。

新版《瓦森纳协定》中虽然没有直接指出对半导体光刻胶的限制，但EUV光刻技术确在限制条款中，KrF和ArF光刻胶是光刻工艺用量最大的关键材料，与之休戚相关。这也导致了近年来资本不断加码国产光刻胶主要玩家，国内晶圆厂也加速国产光刻胶的验证和试产导入。

据晶瑞股份年报披露，公司i线光刻胶已实现供货中芯国际、合肥长鑫等国内FAB厂，KrF光刻胶完成中试，建成了中试示范线，且在去年斥巨资购买了ASMLXT1900 Gi型ArF浸入式光刻机正加速推进Arf光刻胶的研发体系，其子公司苏州瑞红是我国半导体光刻胶规模最大和历史最悠久的光刻胶公司。

与此同时，晶瑞股份还在积极引入核心人才，在高端光刻胶领域吸引了行业资深人才的加盟。

8月1日，据晶瑞股份披露，为加强光刻胶事业部整体实力，加快光刻胶产品的推进速度，抓住行业发展的历史性机遇，公司近年来，持续加大在G/I线光刻胶进一步扩大市场占有率、KrF光刻胶的产业化实施、ArF光刻胶的研发等方面的投入力度。

晶瑞股份表示，近期，公司有幸邀请到陈韦帆先生加入光刻胶事业部，并担任总经理职务。陈韦帆先生深耕半导体行业近20年，其在一家知名的光刻胶企业任职近10年，在高端光刻胶产品的技术研发、市场开拓及评价实施上拥有丰富经验。此次陈韦帆先生的加入将会大力提高公司在高端光刻胶的研发及市场推广的速度。

除此之外，晶瑞股份的高端光刻胶研发的再融资项目已于日前正式获得批文，该项目为由晶瑞牵头发起的超大规模集成电路用高端光刻胶技术攻关及产业化工程的攻关任务之一，旨在通过自主研发，打通ArF光刻胶用树脂的工艺合成路线，完成ArF光刻胶用树脂的中试示范线建设，满足自身ArF光刻胶的性能要求。

可以显见，晶瑞股份在资本的不断助力下，近期又引入光刻胶核心人才，公司在光刻胶领域的整体实力以及全局部署规划的逐步提速，获得行业和市场看好。相信未来随着晶瑞在光刻胶产品的持续大力投入，有望解决我国高端半导体光刻胶卡脖子的现状，值得期待。